能够通过磁场或电场对电子束的强度、位置、聚焦进行直接控制。位置控制的准确度可达015m左右，强度和束斑的大小控制误差也易达到1%以下。eb熔炼炉通过磁场或电场几乎可以无惯性、无功率地控制电子束便于采用计算机控制实现加工过程自动化。eb熔炼炉生产厂家由于电子束加工是在真空中进行，因此污染少加工点处能保持原来材料的纯度适合于加工易级化的金属及合金材料，特别是要求纯度极高的半导体材料。电子束加工需要一套价格昂贵的专用设备，加工中心成本高。

电子束轰击炉特点是：可以达到很高的功率密度，大可达106W/cm2，用于熔炼高熔点材料，工件自身淬火金属热处理及进行快速表面硬化。eb熔炼炉控制方便、精度高，只要调节一下通过聚焦线圈的电流，电子束的加热面积就能改变至100倍以上，电子束的功率密度、方向、轰击时间等都可以*确凋节和控制，可用于选择性硬化处理；电子束轰击加热．需要在发射器和待加热物之问产生受控制的电流，这只有在真空中才能做到。专业eb熔炼炉生产厂家炉料在真空室内进行加热或熔化，除气好、无耐火材料污染，熔炼的材料纯度高；工作时产生X射线，需采取防护措施；没备和技术比较复杂。

电子束熔炼工艺的冶金学：电子束枪为高温热源，在束斑点的温度甚至能超过所有金属的熔化温度和蒸发温度。eb熔炼炉在高频下进行磁偏转和快速扫描，电子束将有效指向具有多种形状的目标，因此电子束是重熔技术中*灵活的热源。电子束冲击目标的典型功率密度为100 W/cm²。根据熔炼材料的特性，功率传递的有效范围约为50~80%。因为EB熔炼为表面加热方法，它只能以可接受的熔化速率生成浅熔池，这必然在多孔性、偏析等方面影响钢锭结构。eb熔炼炉生产厂家过热金属熔池表面暴露在1-0.0001Pa的高真空环境下将对熔化材料产生极好的脱气作用。

在真空下，电子束电子枪的阴极被加热产生热电子逸出。eb熔炼炉在加速电压的作用下，热电子向阳极（零电位）加速运动。由于聚束极的作用，电子束从阳极的中心孔通过，电子束冷床炉向下继续运动，经磁聚焦透镜的多次聚焦和磁偏转扫描透镜的调节，使电子束准确而集中地轰击到原料棒的表面。eb熔炼炉生产厂家在原料和熔池表面产生3000°C以上的温度，原料的表面被加热、熔化、滴入熔池中。熔池就是锭上端的熔化部分，其周围是水冷铜坩埚（结晶器）。真空电子束熔炼炉，由于电子束的加热作用，熔池保持不断地上下、内外对流。随着熔化的原料不断滴入，熔池表面不断上升，拖锭装置又将锭不断向下拉动，使熔池表面保持一定高度。